三星电子于4月16日宣布,它已成功开发出5纳米半导体工艺,并将于本月正式批量生产半导体行业中首个使用极紫外光刻(EUV)的7纳米芯片。这种前前台积电采用Arf技术,首先开发7纳米工艺,并获得苹果华为等厂商的大量订单

三星的5nm半导体工艺采用EUV技术。与ArF工艺相比,EUV使用短波长来更精确地绘制精密半导体电路。为此,三星电子在波兰半导体设备制造商ASML中推出了最先进的EUV设备,该设备价值约5.3亿美元。三星电子称:“这次开发的’5nm工艺’通过单元存储设计进行了优化,与现有的7mm相比,面积减少了25%,而功率使用率提高了20%,性能提高了减少10%。”

三星成功开发了5纳米半导体工艺-而后网

三星电子表示:“国内Fabless专业设计业务将有各种设计基础设施,Fabless客户将能够更轻松,更快速设计产品,并且可以提前推出产品。”